소식

티타늄판의 열간압연 표면은 매끄럽고 깨끗해야 합니다. 플레이트에는 산-알칼리 세척, 샌드블래스팅 및 샌딩 표면을 제공하는 것이 허용됩니다.

재료의 활용률을 향상시키기 위해 얇은 재료의 첫 번째 공정으로 롤 단조 및 교차 압연을 사용할 수 있습니다. 회전단조도 자유단조와 마찬가지로 국부적으로 성형되는데, 단조크기에 비해 단조력이 작을 때 성형이 가능한 것이 장점이다.

티타늄은 단일 물질이고 티타늄은 혼합물입니다. 따라서 티타늄 합금은 더 다양한 특성과 더 넓은 용도를 가지고 있습니다. 티타늄 합금 개념 정의: 다른 합금 원소로 구성된 티타늄 합금을 티타늄 합금이라고 합니다.

탄탈륨 자원은 적고 비용이 많이 들기 때문에 2차 자원의 활용은 특별한 의미를 갖습니다. 니오븀 및 탄탈륨의 2차 자원은 두 부분으로 구성됩니다. 한 부분은 탄탈륨 및 니오브 제품의 제련 및 가공에서 발생하는 폐기물이고, 다른 부분은 사용 과정에서 폐기되는 탄탈륨...

탄탈륨 표면은 높은 유전강도를 갖는 조밀하고 안정적인 비정질 산화막을 형성할 수 있으므로 커패시터의 양극 산화 과정을 정확하고 편리하게 제어할 수 있으며, 탄탈륨 분말 소결 블록은 작은 부피로 큰 표면적을 얻을 수 있습니다. .

그러나 타겟에 뚜렷한 균열이 있으면 균열 가장자리에 전하가 쉽게 집중되어 타겟 표면에 비정상적인 방전이 발생합니다. 방전은 슬래그 낙하, 비정상적인 피막 형성 및 제품 노후화 증가로 이어질 것입니다.

니켈판을 연마하고, 연마한 니켈판을 원심연마하여 니켈 타겟을 제작합니다. 금속 니켈은 기계적 강도가 좋고 외력에 견디며 변형 및 파괴에 대한 저항성이 강하기 때문에 연마, 연삭 및 기타 가공 방법에 적합합니다.

진공 환경 또는 불활성 가스 보호 환경, 순수 몰리브덴 고온 저항 1200도, 몰리브덴 합금 고온 저항 1700도. 몰리브덴의 약한 산화는 300도(572F)에서 시작되며 상업용 금속의 열팽창 계수가 낮은 것 중 하나입니다.

하프늄 타겟은 일반적으로 ITO(인듐주석산화물), 산화아연(ZnO)과 같은 투명 전극 재료를 제조하는 데 사용됩니다. 하프늄 타겟은 높은 순도와 우수한 특성으로 인해 반도체 및 디스플레이 제조에서 중요한 역할을 합니다.

지르코늄 제품은 종류와 형태가 풍부합니다. 초기 광물 형태는 지르콘 모래입니다. 가성소다, 물 세척 및 기타 처리 후에 규산지르코늄, 옥시염화지르코늄과 같은 1차 생성물이 생성될 수 있습니다.

동시에 전문가들은 젓가락 사용에 따라 적시에 교체해야 하며 티타늄 젓가락은 이 문제에 대한 좋은 해결책이라는 점을 상기시킵니다. 티타늄 산화 처리는 "광촉매" 효과를 생성하므로 티타늄 젓가락 산화막은 항균 효과를 갖기 때문입니다. 효과.

스탬핑 성능이 좋지 않고 열가소성이 좋습니다. 다양한 형태의 용접이 좋은 성능으로 수행될 수 있으며 용접 조인트의 강도와 가소성은 모재와 유사할 수 있습니다.